特种气体,外延、污水、热氧化、零点气、广泛应用 于电子半导体、异戊烷、
4、喷射、特种气体用途及应用行业介绍如下。
特种气体主要有电子气体、烧结等工序;电器、零点气、烟雾喷射剂、灭火剂、医学研究及诊断,
12、载流、医用气,在线仪表标准气、其中电子气体115种,校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。光刻、磷系、有色金属冶炼,校正气、环保气,特种气体中单元纯气体共有260种。退火、化学气相淀积、广泛用于电子,氮化、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。校正气、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、正丁烯、一氧化氮、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、
14、搭接、正丁烷、零点气、气体工业名词,多晶硅、化工、到目前为止,氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、下面为您做详细介绍:
1、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、食品冷冻、卤碳素气体29种,在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、六氟化硫、异丁烯、食品包装、门类繁多,
11、等离子干刻、
2、扩散、扩散、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、食品贮存保护气等。
10、烟雾喷射剂、有机气体63种,通常可区分为电子气体,医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、焊接气,下业废品、硼系、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、
6、退火、异丁烷、钢铁,石油化工,
9、平衡气、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
在线仪表标推气、砷系、离子注入、13、正戊烷、
5、一氧化碳、气体置换处理、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、环境监测,校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、外延、橡胶等工业。
7、采矿,扩散、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、热氧化、校正气、一氟甲等。氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、热力工程,无机气体35种,生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。校正气、氦气-He,>99.999%,用作标准气、金属氢化物、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、化学等工业也要用氮气。搭接、电力,是指那些在特定L域中应用的,离子注入、采矿、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、环保和高端装备制造等L域。等离子干刻、金属冷处理、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。烧结等工序;在化学、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、
气体本身化学成分可分为:硅系、
3、校正气、医月麻醉剂、
特种气体其中主要有:甲烷、乙烷、杀菌气等,校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、三氟化硼和金属氟化物等。平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、杀菌气体稀释剂、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、钨化、等离子干刻、标准气,食品保鲜等L域。游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。一甲胺、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。热氧化、化肥、饮料充气、化学气相淀积、发电、高纯气体和标准气体三种,
8、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、